NETPHOS HP
Odt┼éuszczanie fosforanowanie za pomoc─ů wysokiego ci┼Ťnienia lub poprzez zanurzanie

OPIS

NETPHOS HP jest ┼Ťrodkiem odt┼éuszczaj─ůco fosforanuj─ůcym amorficznie do stosowania pod wysokim ci┼Ťnieniem lub poprzez zanurzenie.

NETPHOS HP oczyszcza elementy sk┼éadaj─ůce si─Ö z ró┼╝nych materia┼éów :

  • metale ┼╝elazawe
  • stopy lekkie
  • stal galwanizowana i ocynkowana
  • stal nierdzewna

 

WŁAŚCIWOŚCI

POSTA─ć: Ciecz 
PH ┼Ťrodka w 1%: Oko┼éo 3,10
G─śSTO┼Ü─ć W 20°C: Oko┼éo 1,10 

 

SPOSÓB U┼╗YCIA

Stosowanie Koncentracja Temperatura Czas kontaktu ci┼Ťnienie P┼éukanie
Wysokie ci┼Ťnienie 1 do 2% na wyj┼Ťciu dyszy
10% roztwór bazowy
70 do 90ºC 30s do 1min 80 do 120 bar Niewymagane
Zanurzenie 2 do 6% 30 do 40ºC 5 do 10min Woda przemys┼éowa

 

Dzia┼éanie odt┼éuszczaj─ůce ┼Ťrodka NETPHOS HP mo┼╝e by─ç uskutecznione po dodaniu ┼Ťrodka PRONET TS 4

 

ŚRODKI OSTROŻNOŚCI

Przed u┼╝yciem lub utylizacj─ů NETPHOS HP zapozna─ç si─Ö z ulotk─ů.

Za┼é─ůczniki

+48 607 310 315